欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
成果数据库
>
期刊
> 期刊详情页
Characteristics of the Wheel Surface Topography in Ultra-precision Grinding of Silicon Wafers
ISSN号:1013-9826
期刊名称:Key Engineering Materials
时间:0
页码:36-41
语言:英文
相关项目:超薄硬脆晶体基片的耦合能量软磨机理与关键技术研究
作者:
Huo, F. W.|Guo, D. M.|Kang, R. K.|Jin, Z. J.|
同期刊论文项目
超薄硬脆晶体基片的耦合能量软磨机理与关键技术研究
期刊论文 7
专利 2
同项目期刊论文
Elimination of Surface Scratch / Texture on the Surface of Single Crystal Si Substrate in Chemo-mech
Material Removal Mechanism of Chemo-mechanical Grinding (CMG) of Si Wafer by Using Soft Abrasive Gri
Study on Grinding Performance of Soft Abrasive Wheel for Silicon Wafer
A novel single step thinning process for extremely thin Si wafers
Study on Subsurface Damage Model of the Ground Monocrystallinge Silicon Wafers
应用软磨料磨削的单晶硅超精密制造技术