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利用HRXRD和UV-Vis反射光谱确定AlGaN/GaN/Al2O3的结构与成分
  • 期刊名称:材料科学与工程学报,2008年第26卷第3期,325-327页
  • 时间:0
  • 分类:O47[理学—半导体物理;理学—物理] O484[理学—固体物理;理学—物理]
  • 作者机构:[1]杭州电子科技大学电子信息学院,浙江杭州310018, [2]浙江大学硅材料国家重点实验室,浙江杭州310027
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(60576063),教育部博士点基金资助项目(20050335036)
  • 相关项目:透明导电金属氧化物薄膜的P型掺杂研究
中文摘要:

结合紫外-可见光谱和高分辨XRD两种测试方法,无损、可靠地确定了AlGaN/GaN HEMT结构内各层的厚度、成分、应力等参数,解决了高分辨XRD无法同时确定成分与应力的难题。这两种方法的好处是样品不需经过特殊的处理,也不需进行切割、减薄等工艺,具有快速、无损、准确的特点,可以作为AlGaN/GaNHEMT器件的筛选工具,提高器件的成品率、降低生产成本。

英文摘要:

AIGaN/GaN/Al2O3 HEMT structures were non-destructively characterized by the combination of UV-Vis spectra and High resolution X-ray diffraction. From this combination, thickness, composition, and strain in the individual layers in the HEMT structure can be uniquely determined. The merits of this combination including non-destructive, high reliability, and high efficiency, compared to other techniques such as TEM and SEM by which samples should be mechanically processed. It can be used as an online QC technique for the AlGaN/GaN HEMT device production to reduce the production cost and improve the quality of the HEMT device.

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