超低压直流磁控溅射法制备金属多层膜的研究-东篱科研大数据发现系统（DRDS）

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超低压直流磁控溅射法制备金属多层膜的研究

项目名称：超低压直流磁控溅射法制备金属多层膜的研究
项目类别：联合基金项目
批准号：10576003
申请代码：A06
项目来源：国家自然科学基金
研究期限：2006-01-01-2008-12-31

项目负责人：郑瑞廷
负责人职称：教授
依托单位：北京师范大学
批准年度：2005

中文摘要：

利用磁控溅射方法研究在超低压条件下（0.01～0.5Pa）条件下Au/Fe、Au/Ni等二元系列金属纳米多层膜的制备工艺和技术，设计并改造适合于超低压条件下纳米薄膜制备的直流磁控溅射附件；研究大面积无支撑的Au/Fe、Au/Ni二元系列纳米金属多层薄膜的制备技术，分析探讨不同衬底材料对纳米金属多层膜结构的影响，大面积无支撑金属纳米多层膜的内应力大小、分布与多层膜结构和超低压直流磁控溅射技术中气压、

中文主题词：金属多层膜;无支撑;磁控溅射;内应力

成果综合统计