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高电荷稳定性Si3N4/SiO2双层驻极膜性能和储电机制研究
项目名称:高电荷稳定性Si3N4/SiO2双层驻极膜性能和储电机制研究
项目类别:专项基金项目
批准号:59682003
项目来源:国家自然科学基金
研究期限:1900-01-01-1900-01-01
项目负责人:夏钟福
依托单位:同济大学
批准年度:1996
成果综合统计
成果类型
数量
期刊论文
会议论文
专利
获奖
著作
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期刊论文
恒栅流负电晕充电的Si基SiO2驻极体的电荷稳定性
硼离子注入对硅基Si3N4薄膜驻极体性质的影响及力学性能的改善
夏钟福的项目
二氧化硅驻极体的基本特性和机理
期刊论文 1
第11届国际驻极体会议
多孔聚四氟乙烯膜储电性及压电性的研究
期刊论文 12
会议论文 9
著作 1
用溶胶-凝胶工艺研制二氧化硅驻极体和微电子介质薄膜