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硅上β-FeSi2的超高真空镀膜外延及其光学性质研究
  • 项目名称:硅上β-FeSi2的超高真空镀膜外延及其光学性质研究
  • 项目类别:面上项目
  • 批准号:69576036
  • 申请代码:F040501
  • 项目来源:国家自然科学基金
  • 研究期限:1996-01-01-1998-12-01
  • 项目负责人:林成鲁
  • 负责人职称:研究员
  • 依托单位:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
  • 批准年度:1995
中文摘要:

β-FeSi2是一种新型半导体材料。本项目在其外延生长、微结构、光学性质等方面取得如下结果(1)提出反应沉积外延动态模型,独创反应沉积固相外延,改进了共沉积方法,得到具有较高晶体质量的外延薄膜;(2)采用内转换穆斯堡尔谱发现在Si(111)上存在几种等价的外延关系(3)在国际上首次获得其吸收边附近的光调制反射谱,给出它为直接带隙的实验证据并发现杂质带的存在;(4)研究它的红外吸收和晶格振动谱;(5)开展了FeSi2中掺Co、Ni的研究工作并发现它与不同的生长过程有关。该项目研究对进了解β-FeSi2及其相关硅化物的生长机制,高质量β-FeSi2薄膜在硅上的外延,能带结构和光学性质具有重要的理论意义和学术价值。


成果综合统计
成果类型
数量
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利
  • 获奖
  • 著作
  • 4
  • 0
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林成鲁的项目
期刊论文 13 会议论文 5 获奖 4