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硅中H+,He+离子注入引起的纳米孔层及其应用探索
  • 项目名称：硅中H+,He+离子注入引起的纳米孔层及其应用探索
  • 项目类别：面上项目
  • 批准号：19775062
  • 项目来源：国家自然科学基金
  • 研究期限：1900-01-01-1900-01-01
  • 项目负责人：林成鲁
  • 依托单位：中国科学院上海微系统与信息技术研究所
  • 批准年度：1997
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