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以AlN为绝缘埋层的新型SOI材料探索
  • 项目名称：以AlN为绝缘埋层的新型SOI材料探索
  • 项目类别：面上项目
  • 批准号：69976034
  • 项目来源：国家自然科学基金
  • 研究期限：1900-01-01-1900-01-01
  • 项目负责人：林成鲁
  • 依托单位：中国科学院上海微系统与信息技术研究所
  • 批准年度：1999
成果综合统计
成果类型
数量
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利
  • 获奖
  • 著作
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期刊论文
制备AlN薄膜为绝缘埋层的新型SOI材料
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