中文摘要：

高能重离子损伤建立过程中的离子速度效应，是高能重离子强电子激发效应研究中的重要前沿， 本项目利用HIRFL提供的能量为GeV量级的Fe和Kr离子，辐照了多层堆叠的C60样品，用低速高电荷Xe和B离子辐照了C60、石墨和金刚石。用FTIR、AFM和XPS等分析测试手段，研究了C60样品中由强电子激发引起的效应；较准确地测定了C60薄膜中损伤建立过程中的离子速度效应，及其与电子能损的相关性；观察到了低速高电荷Xe离子引起C60薄膜表面粗糙度随离子电荷态增加而降低的趋势；首次测试了在完全相同的辐照条件下碳的三种同素异构体对低能B离子辐照的敏感性和结构稳定性，测试结果表明，C60对B离子辐照最为敏感，金刚石次之，石墨在B离子辐照下结构最为稳定；从Raman谱演绎出的C60、金刚石和HOPG的损伤截面σ分别为7.78 x10-15, 6.38 x10-15和 1.31x10-15cm2；率先观察到C60分子不同激活模对B离子辐照的敏感性不同，观察结果表明，在红外激活模中，T1u(4)对辐照最为敏感，T1u(2)最稳定，在Raman激活模中，Hg（4）对辐照最为敏感，而Hg(3)最为稳定。