氮化镓半导体低维结构中子带间集体激发问题,涉及面广,理论和实验内容丰富,而且具有广泛的应用前景,因此,开展对这类问题的研究具有重要的科学意义。目前,人们对这类问题的研究处于初级阶段,有许多科学问题值得研究,本项目主要研究如下问题 1)对氮化镓半导体多量子阱和量子点子带结构进行红外光谱和Raman散射谱测量,比较不同温度和有无磁场的条件下,光谱谱线的差异,从中分析子带间和子带内的等离子激元集体激发和单粒子激发特征;2)基于有效质量理论,用有限元方法计算多量子阱和量子点子带结构和波函数;3)用随机位相近似(RPA)研究半导体子带间和子带内等离子激元集体激发和单粒子激发问题;4)研究氮化镓低维结构的子带间THz光辐射与等离子激元集体激发之间的耦合,确定子带间THz光辐射和集体激发之间的关系。
nitride semiconductor;intersubband Thz radiation;collective plasmon excitation;two dimensional electronic gas;heterojunction
氮化镓半导体低维结构中子带间集体激发问题,研究取得如下成果 1)对氮化镓半导体多量子阱和量子点子带结构进行红外光谱和Raman散射谱测量,比较不同温度和有无磁场的条件下,光谱谱线的差异,分析子带间和子带内的等离子激元集体激发和单粒子激发特征; 2)基于有效质量理论,用有限元方法计算多量子阱, 量子点和异质结构的子带结构和波函数; 3)用随机位相近似(RPA)研究半导体子带间和子带内等离子激元集体激发和单粒子激发问题; 4)研究了氮化物异质结中的电子输运问题,给出异质结中二维电子气的集体激发和电子输运的关系; 5)2010年至2012年共发表SCI论文6篇,其中Applied Physics Letters 2篇。