位置：立项数据库 > 立项详情页
厚层光致抗蚀剂光刻技术研究
  • 项目名称：厚层光致抗蚀剂光刻技术研究
  • 项目类别：面上项目
  • 批准号：60276018
  • 项目来源：国家自然科学基金
  • 研究期限：1900-01-01-1900-01-01
  • 项目负责人：郭永康
  • 依托单位：四川大学
  • 批准年度：2002
成果综合统计
成果类型
数量
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利
  • 获奖
  • 著作
  • 3
  • 0
  • 0
  • 0
  • 0
期刊论文
厚胶光刻中曝光光强对光化学反应速率的影响
用改进曝光模型模拟厚胶显影轮廓
抗蚀剂AZ4562曝光参数的变化趋势分析
郭永康的项目
光学邻近效应研究
大口径衍射光学元件集成新技术研究
期刊论文 13 会议论文 6
“光学科学与技术”国际会议－国际光学工程学会第48届年会