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重掺Te的GaSb中缺陷的正电子寿命研究
  • ISSN号:1671-8836
  • 期刊名称:武汉大学学报(理学版)
  • 时间:0
  • 页码:585-588
  • 语言:中文
  • 分类:O474[理学—半导体物理;理学—物理]
  • 作者机构:[1]武汉大学物理科学与技术学院,湖北武汉430072
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(10775107)
  • 相关项目:用高分辨数字式正电子寿命谱研究AlN、ZnO等半导体中的缺陷
中文摘要:

用正电子寿命谱技术研究了重掺Te的GaSb原生样品、电子辐照样品和质子辐照样品.室温正电子寿命测量揭示出原生重掺Te的GaSb样品中存在VGa相关缺陷,其寿命大小约为298 ps.电子辐照会使该缺陷发生变化,导致平均寿命值减小,VGa相关缺陷从-3价变为-2价.质子辐照后,产生了寿命值较大的缺陷.在10-300K变温实验中,观测到3种样品都存在浅捕获缺陷,该浅捕获缺陷是GaSb反位缺陷.

英文摘要:

Heavily Te-doped as-grown GaSb, electron-irradiated GaSb and proton-irradiated GaSb samples were studied by positron lifetime spectroscopy(PAS). The room temperature lifetime measurement indicated there were VG-related defects with a characteristic lifetime of 298 ps in the heavily Te-doped as-grown GaSb sample. After electron irradiation, this type of defect changed and the average lifetime decreased. It should be due to VGa^3- changing to VGa^2-. Proton irradiation could introduce defects with a high lifetime, and they should be double-vancany defects they may be double-vancany defects. In the temperature dependence measurements which were carried out over the temperature range of 10-300 K, positron shallow trap was observed in all of the three samples, and it should be attributed to positrons forming hydrogenlike Rydberg states with Gash antisite defects.

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期刊信息
  • 《武汉大学学报:理学版》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中华人民共和国2教育部
  • 主办单位:武汉大学
  • 主编:刘经南
  • 地址:湖北武昌珞珈山
  • 邮编:430072
  • 邮箱:whdz@whu.edu.cn
  • 电话:027-68756952
  • 国际标准刊号:ISSN:1671-8836
  • 国内统一刊号:ISSN:42-1674/N
  • 邮发代号:38-8
  • 获奖情况:
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),美国数学评论(网络版),德国数学文摘,荷兰文摘与引文数据库,美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,英国动物学记录,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版)
  • 被引量:6988