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铜基石墨烯的CVD法制备工艺参数研究
  • ISSN号:1671-4512
  • 期刊名称:《华中科技大学学报:自然科学版》
  • 时间:0
  • 分类:TN304.055[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]上海大学新型显示技术与应用集成教育部重点实验室
  • 相关基金:国家重点基础研究发展计划资助项目(2011CB013100)
中文摘要:

采用乙炔作为碳源,分析了碳源浓度、生长时间等参数对铜基石墨烯成核密度、生长速率及单层覆盖率的影响,通过热氧化法系统展示了石墨烯形核、长大、生长结束的全过程.研究发现;碳源浓度较小时成核密度较低,所得石墨烯晶粒更大,但单个多层点的面积较大,且多以双层为主;在石墨烯生长过程中,氢气既可辅助碳氢化合物分解,同时也会刻蚀部分成核点,从而促进石墨烯质量的提高;基于单层率与晶粒尺寸之间的平衡,采用乙炔与氢氩混合气(体积比为1∶9)流速比为5∶100作为生长石墨烯的气体工艺参数,获得了透过率约为97.1%,缺陷较少且以单层为主的大面积石墨烯.

英文摘要:

T he effects of concentration and deposition time on nucleation density ,grow th rate and the coverage fraction of single layer graphene were discussed with ethyne as the precursor of activated car-bon .The nucleation ,grain growth ,and ending phenomenon were displayed by hot plate method .It is found that with the decrease of ethyne concentration ,the bigger the graphene grain size ,the bigger the area of multi-layer graphene ,w hich is mainly composed of double layer graphene .During the dep-osition process ,the hydrogen not only can assist the break-dow n of hydrocarbon ,but also can etch parts of nucleation sites ,and then promotes the graphene quality .Based on the tradeoff between the single layer ratio and grain size of graphene ,the optimized process parameter with the ethyne/mixing gas (φ(H2 )∶ φ(Ar)=1∶9) ratio of 5∶100 is used for the fabrication and graphene with transparency of 97 .1% ,low defect density ,and mainly composed of single layer graphene is obtained .

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期刊信息
  • 《华中科技大学学报:自然科学版》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中华人民共和国教育部
  • 主办单位:华中科技大学
  • 主编:丁烈云
  • 地址:武汉珞喻路1037号
  • 邮编:430074
  • 邮箱:hgxbs@mail.hust.edu.cn
  • 电话:027-87543916 87544294
  • 国际标准刊号:ISSN:1671-4512
  • 国内统一刊号:ISSN:42-1658/N
  • 邮发代号:38-9
  • 获奖情况:
  • 全国优秀科技期刊,首届国家期刊奖,第二届全国优秀科技期刊评比一等奖,中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),美国数学评论(网络版),德国数学文摘,荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版)
  • 被引量:21013