欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
成果数据库
>
期刊
> 期刊详情页
Dislocations related with the pore on P-rich InP wafer
ISSN号:1862-6351
期刊名称:Physica Status Solidi (C) Current Topics in Solid
时间:2013.11.11
页码:1373-1376
相关项目:不同熔体配比条件下InP单晶生长及材料性质研究
作者:
Liu,Zhiguo|Yang,Ruixia|Tian,Xiuwei|Yang,Fan|Wang,Qiang|Wang,Yang|Li,Xiaolan|
同期刊论文项目
不同熔体配比条件下InP单晶生长及材料性质研究
期刊论文 19
会议论文 3
同项目期刊论文
非接触四波混频技术测试InP单晶
InP单晶的磁光和热电效应
InP晶片位错密度的测量与分析
InP单晶退火及热应力分布的研究
Influence of the cone angle and crystal shape on the formation of twins in InP crystals
InP晶片位错密度分布测量
富磷熔体生长 InP 单晶的均匀性研究
LEC法生长富磷掺铁InP单晶晶格应变与残留应力研究
射频溅射ZnO作为GaN厚膜生长缓冲层的工艺研究
GaN厚膜中的质子辐照诱生缺陷研究
Persistent photoconductivity in neutron irradiated GaN
An 8-18 GHz broadband high power amplifier
Surface reconstructions and reflection high-energy electron diffraction intensity oscillations during homoepitaxial growth on nonmisoriented GaAs(111)B by MBE
腔长对高功率单管半导体激光器性能的影响
富磷InP单晶中气孔的形成及其结构研究
HP-LEC法InP单晶生长的引晶、放肩过程研究
化合物半导体器件与电路的研究进展
磷化铟单晶退火及热应力分布的研究