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非接触四波混频技术测试InP单晶
  • ISSN号:1003-353X
  • 期刊名称:半导体技术
  • 时间:2011
  • 页码:97-100
  • 分类:TN304.25[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]中国电子科技集团公司第十三研究所,石家庄050051, [2]澳大利亚国立大学工程与计算机科学学院,堪培拉2601, [3]河北工业大学信息工程学院,天津300130, [4]杭州电子科技大学天线与微波技术研究所,杭州301108
  • 相关基金:国家自然基金(61076004); 浙江省公益技术研究工业项目(2010C31118)
  • 相关项目:不同熔体配比条件下InP单晶生长及材料性质研究
中文摘要:

利用四波混频(FWM)技术测试了非掺杂、掺Fe半绝缘InP单晶的光电特性,对载流子的产生、复合和输运等过程进行了研究,分析了深陷阱在载流子的产生与输运中的作用,并给予了解释。利用光栅衰减动力学得到在不同激发水平下非平衡自由载流子的扩散系数和复合时间。通过分析衍射效率和激发能量之间的相互关系,测定了缺陷的电学特性,即它们在光照下的传输和对载流子传输的贡献。这种技术可以通过测量时间和空间上的载流子分布,进而利用光学技术测试半导体材料的光电特性。

英文摘要:

The photoelectric characteristics of un-doped and Fe-doped InP crystals were measured by time resolved degenerative four-wave mixing technique.The processes of the carrier generation,recombination and transport were studied.The role of deep traps in carrier generation and transport were analyzed and explained.The diffusion and recombination time of nonequilibrium free carriers were detained in different simulate levels by grating attenuation dynamics.The defects were measured through analyzing the relationship between diffraction efficiency and excitation energy.By monitoring temporal and spatial carrier distribution,this technique provides an access to photoelectrical processes of semiconductor materials by optical means.

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期刊信息
  • 《半导体技术》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国电子科技集团公司
  • 主办单位:中国电子科技集团公司第十三研究所
  • 主编:赵小玲
  • 地址:石家庄179信箱46分箱
  • 邮编:050051
  • 邮箱:informax@heinfo.net
  • 电话:0311-87091339
  • 国际标准刊号:ISSN:1003-353X
  • 国内统一刊号:ISSN:13-1109/TN
  • 邮发代号:18-65
  • 获奖情况:
  • 中文核心期刊,中国科技论文统计用刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:6070