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Fe基合金薄带磁畴结构的MFM研究
  • 期刊名称:浙江师范大学学报(自然科学版)
  • 时间:0
  • 页码:150-154
  • 语言:中文
  • 分类:O482.5[理学—固体物理;理学—物理]
  • 作者机构:[1]浙江师范大学数理与信息工程学院,浙江金华321004
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(50871104); 浙江省自然科学基金资助项目(Y4080324); 优秀硕士论文培优计划项目(KYJ06Y09086); 浙江省新苗人才计划项目(KYZKJY09099); 浙江省大学生科技创新项目(ZC316009004)
  • 相关项目:高灵敏响应近零微弱外磁场的磁敏新材料及机理研究
中文摘要:

利用磁力显微镜(MFM)观测了550℃自由退火和张应力(δ=170 MPa)退火的Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9合金薄带表面磁畴结构.发现自由退火样品表面畴结构是迷宫畴,应力退火的为片状畴.并采用立体测量法测量了迷宫畴的畴宽为203 nm,片状畴的畴宽为214 nm.认为样品结构的差异可能是张应力退火所引起的α-Fe(Si)纳米晶粒的方向优势团聚所致.

英文摘要:

The domain structures of Fe-73.5Cu-1Nb-3Si-13.5B-9 alloy ribbons were observed by MFM,which were treated by conventional annealing at 550 ℃ and conventional stress annealing(i.e.tensile stress of 170 MPa).For the 550 ℃ annealing sample,the domain structure was maze domain and the average domain width was 203 nm measured by stereologic method.In the stress annealing case,the domain structure dominated by the stripe domain with the width of 214 nm.It was suggested that the different domain structures resulted from the presence of directional partical clusters of α-Fe(Si)nanocrystalline phase caused by stress annealing.

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