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Effects of interaction between defects on the uniformity of doping HfO 2-based RRAM A first principl
期刊名称:Journal of Semiconductors
时间:2013
页码:1-6
相关项目:纳米CMOS器件统一模型模拟理论及性能优化方案的研究
作者:
z hao Q iang|Dai Yuehua|
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