欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
成果数据库
>
期刊
> 期刊详情页
退火工艺对LaTiON和HfLaON存储层MONOS存储器特性的影响
ISSN号:1000-3290
期刊名称:物理学报
时间:0
页码:038511-038516
相关项目:小尺寸低压高速长保持力电荷陷阱型悬浮栅存储器的研究
作者:
朱剑云|刘璐|李育强|徐静平|
同期刊论文项目
小尺寸低压高速长保持力电荷陷阱型悬浮栅存储器的研究
期刊论文 14
会议论文 5
同项目期刊论文
Improved Charge-Trapping Properties of TiON/HfON Dual Charge Storage Layer by Tapered Band Structure
Improved charge-trapping properties of HfYON film for nonvolatile memory applications in comparison
Improved performance of yttrium-doped Al2O3 as inter-poly dielectric for flash-memory applications
A Novel MONOS Memory with High-k HfLaON as Charge-Storage Layer
A Study on the Improved Programming Characteristics of Flash Memory with Si3N4/SiO2 Stacked Tunnelin
Improved Memory Characteristics by NH3-Nitrided GdO as Charge Storage Layer for Nonvolatile Memory A
Ultranthin HfON/SiO2 Dual Tunneling Layer for Improving the Electrical Properties of Metal-Oxide-Nit
退火工艺对LaTiON和HfLaON存储层金属-氧化物-氮化物-氧化物-硅存储器特性的影响
LaON/SiO2和HfON/SiO2双隧穿层MONOS存储器存储特性的比较
Improved memory performance of metal-oxide-nitride-oxide-silicon by annealing the SiO2 tunnel layer in different nitridation atmospheres
GdO存储层中氧含量及掺氮对MONOS存储器特性的影响
一款高精度宽温度范围TCXO芯片的设计
一种用于温补晶振的EEPROM修调电路设计
期刊信息
《物理学报》
北大核心期刊(2011版)
主管单位:中国科学院
主办单位:中国物理学会 中国科学院物理研究所
主编:欧阳钟灿
地址:北京603信箱(中国科学院物理研究所)
邮编:100190
邮箱:apsoffice@iphy.ac.cn
电话:010-82649026
国际标准刊号:ISSN:1000-3290
国内统一刊号:ISSN:11-1958/O4
邮发代号:2-425
获奖情况:
1999年首届国家期刊奖,2000年中科院优秀期刊特等奖,2001年科技期刊最高方阵队双高期刊居中国期刊第12位
国内外数据库收录:
美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国科学引文索引(扩展库),英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
被引量:49876