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不同淀积厚度InAs量子点的喇曼散射
  • ISSN号:1674-4926
  • 期刊名称:《半导体学报:英文版》
  • 时间:0
  • 分类:TN244[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]南开大学弱光非线性光子学材料先进技术及制备教育部重点实验室,天津 300457, [2]中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室,北京 100083
  • 相关基金:国家自然科学基金(批准号:60476042)和天津市应用基础研究(批准号:06YFJZJC01100)资助项目
中文摘要:

利用喇曼散射方法在77K温度下对不同淀积厚度的InAs/GaAs量子点材料进行了研究.在高于InAs体材料LO模的频率范围内观察到了量子点的喇曼特征峰,分析表明应变效应是影响QD声子频率的主要因素.实验显示,随着量子点层淀积厚度L的增加,InAs量子点的声子频率由于应变释放发生红移.在加入InAlAs应变缓冲层的样品中,类AlAs声子峰随L增大发生了蓝移,从侧面证实了InAs量子点层的应变释放过程.

英文摘要:

The Raman scattering of InAs/GaAs self-assembled quantum dots(QDs) with different InAs thicknesses is investigated. The vibrational mode, which can be assigned to QD phonons, is observed. Analysis indicates that strain is the most important factor that influences the InAs QD frequency. As the InAs deposition thickness L increases,the InAs-like LO mode frequency decreases,which we attribute to the relaxation of the strain in the QD layer. In another sample with an InAIAs strain buffer layer,the AlAs-like LO mode shows a blue shift as L increases. This also supports the proposed strain relaxation process in QDs.

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期刊信息
  • 《半导体学报:英文版》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国电子学会 中国科学院半导体研究所
  • 主编:李树深
  • 地址:北京912信箱
  • 邮编:100083
  • 邮箱:cjs@semi.ac.cn
  • 电话:010-82304277
  • 国际标准刊号:ISSN:1674-4926
  • 国内统一刊号:ISSN:11-5781/TN
  • 邮发代号:2-184
  • 获奖情况:
  • 90年获中科院优秀期刊二等奖,92年获国家科委、中共中央宣传部和国家新闻出版署...,97年国家科委、中共中央中宣传部和国家新出版署三等奖,中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:7754