欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
成果数据库
>
期刊
> 期刊详情页
Total dose ionizing radiation effects in the indium-zinc oxide thin-film transistors
ISSN号:0741-3106
期刊名称:IEEE Electron Device Letters
时间:2014.3.15
页码:369-371
相关项目:双极型器件的低剂量率辐射损伤机理与加速试验研究
作者:
En Yun-Fei|Wang Lei|Lei Zhi-Feng|Wang Xiao-Han|
同期刊论文项目
双极型器件的低剂量率辐射损伤机理与加速试验研究
期刊论文 16
会议论文 19
同项目期刊论文
电离辐射对部分耗尽SOI器件关态电流的影响
非晶铟锌氧化物薄膜晶体管的低频噪声特性与分析
部分耗尽结构绝缘体上硅器件的低频噪声特性
双极型电压比较器的强电磁脉冲效应
Azimuthal dependence of single-event and multiple-bit upsets in SRAM devices with anisotropic layout
Instability of indium zinc oxide thin-film transistors under transmission line pulsed stress
电离辐射对部分耗尽绝缘体上硅器件低频噪声特性的影响
双极型器件的总剂量辐射效应与损伤机理
集成电路核电磁脉冲效应的仿真方法研究
Low Frequency Noise and Radiation Response in the Partially Depleted SOI MOSFETs with Ion Implanted
集成电路单粒子瞬态效应与测试方法
铟锌氧化物薄膜晶体管局域态分布的提取方法
总剂量辐照对热载流子效应的影响研究
Low-frequency noise characteristics in the MOSFETs processed in 65 nm technology
典型卫星轨道辐射环境及在轨软错误率预计模型分析