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Characterizations of removal rate and temperature inthe inductively coupled plasma etching of silico
  • ISSN号:0878-492569
  • 期刊名称:Key Engineering Materials
  • 时间:2016.2.1
  • 页码:85-90
  • 相关项目:自由曲面光学零件的大气等离子体射流加工技术基础研究
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