欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
成果数据库
>
期刊
> 期刊详情页
Moiré-based focusing and leveling scheme for optical projection lithography
ISSN号:0003-6935
期刊名称:Applied Optics
时间:0
页码:5959-5963
语言:英文
相关项目:稀有金属微纳结构中倏逝波的多次激发和稳定性研究
作者:
Yan, Wei|Yang, Yong|Zhou, Shaolin|Chen, Wangfu|Hu, Song|
同期刊论文项目
稀有金属微纳结构中倏逝波的多次激发和稳定性研究
期刊论文 19
会议论文 3
专利 1
同项目期刊论文
Alignment model of moire and its application in nanometer lithography
Phase photon sieve
Tilt-modulated spatial phase imaging method for wafer-mask leveling in proximity lithography
基于矢量衍射理论的振幅型光子筛设计与分析
Design and application of phase photon sieve
基于表面等离子体的微纳光刻技术
位相型衍射光学元件设计的混合算法
Recent development of plasmonic metallic subwavelength structures: A review
Fabrication of nanoscale line width using the improved optical maskless lithographic system
Beam Splitter Achieved by Using Metallic Structure with Nanoslits
纳米光刻双光栅对准莫尔条纹分析
纳米光刻中莫尔对准模型与应用
无掩模光刻技术研究