位置：成果数据库 > 期刊 > 期刊详情页
Fabrication of nanoscale line width using the improved optical maskless lithographic system
  • ISSN号：1546-1955
  • 期刊名称：Journal of Computational and Theoretical Nanoscien
  • 时间：0
  • 页码：1170-1174
  • 语言：英文
  • 相关项目：稀有金属微纳结构中倏逝波的多次激发和稳定性研究
作者： Zhou, Shaolin|Yan, Wei|Hu, Song|Yang, Yong|Zhao, Lixin|Chen, Wangfu|Jiang, Wenbo|
同期刊论文项目
稀有金属微纳结构中倏逝波的多次激发和稳定性研究
期刊论文 19 会议论文 3 专利 1
同项目期刊论文
Alignment model of moire and its application in nanometer lithography
Phase photon sieve
Tilt-modulated spatial phase imaging method for wafer-mask leveling in proximity lithography
基于矢量衍射理论的振幅型光子筛设计与分析
Moiré-based focusing and leveling scheme for optical projection lithography
Design and application of phase photon sieve
基于表面等离子体的微纳光刻技术
位相型衍射光学元件设计的混合算法
Recent development of plasmonic metallic subwavelength structures: A review
Beam Splitter Achieved by Using Metallic Structure with Nanoslits
纳米光刻双光栅对准莫尔条纹分析
纳米光刻中莫尔对准模型与应用
无掩模光刻技术研究