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基于图形衬底的InAs/GaAs量子点和量子环液滴外延
  • ISSN号:0253-4177
  • 期刊名称:半导体学报
  • 时间:0
  • 页码:2003-2008
  • 语言:中文
  • 分类:O78[理学—晶体学]
  • 作者机构:[1]中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室,北京100083
  • 相关基金:国家重点基础研究发展规划(批准号:2006CB604908)和国家自然科学基金(批准号:60625402)资助项目
  • 相关项目:超晶格解理面上应变自组织纳米结构生长和光电性质研究
中文摘要:

液滴外延生长半导体材料是一种较为新颖的MBE生长技术,而图形衬底对液滴外延的影响到目前为止并没有非常详细的研究结果.作者在GaAsμm级别图形衬底上进行了InAs的液滴外延生长,并在不同结构的图形衬底上得到了不同的InAs量子点和量子环生长结果.基于生长结果,分析了图形衬底对液滴外延的影响和液滴外延下量子点和量子环的形成机制以及分布规律.

英文摘要:

Droplet epitaxy is a new MBE growth method for semiconductor materials, but there has been no effective research concerning the influence of patterned substrate on droplet epitaxy until now. The authors report different quantum dots and quantum rings grown on different types of tim-scale patterned substrates and analyze the influence of patterned substrate on droplet epitaxy, the formation mechanism of the quantum rings, and their distribution behavior.

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