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Chemical control of physical properties in silicon nitride films
  • ISSN号：0947-8396
  • 期刊名称：Applied Physics A: Materials Science & Process
  • 时间：2013.6.6
  • 页码：867-876
  • 相关项目：太赫兹室温探测器的基础研究
作者： Xiangdong Xu|Dong Zhou|Qiong He|Yadong Jiang|Taijun Fan|Long Huang|Tianhong Ao|Shaowei He|
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