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磁控溅射用CoCrPt系靶材制备技术研究进展
  • ISSN号:1004-0676
  • 期刊名称:《贵金属》
  • 时间:0
  • 分类:TG146.4[金属学及工艺—金属材料;一般工业技术—材料科学与工程;金属学及工艺—金属学]
  • 作者机构:[1]昆明贵金属研究所稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室,昆明650106
  • 相关基金:国家科技部院所技术开发专项(2010EG215060)、云南省院所技术开发专项(2009CF003)、国家基金项目(U0837601);南省基金项(2010CD126,2010ZC55)资助.
中文摘要:

目前在高密度磁记录薄膜中大量使用到CoCrPt系溅射靶材。重点介绍了CoCrPt系磁性靶材国内外发展现状,靶材制备中的主要工艺以及质量控制内容和方法,最后分析了存在的技术难点和需要解决的问题。

英文摘要:

The CoCrPt system sputtering target has been widely used in high density of layer thin-film magnetic recording storage media preparation. The research progress on CoCrPt system sputtering targets was summarized from resent relevant patents and reports. The process and preparation methods of those magnetic sputtering targets were mainly discussed and analyzed. The key points of target's quality control were listed and studied in detail. At last, important technology problems and main difficulties which occurred in CoCrPt system sputtering target were discussed.

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期刊信息
  • 《贵金属》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:
  • 主办单位:中国有色金属学会 昆明贵金属研究所
  • 主编:钱琳
  • 地址:云南昆明市高新技术开发区科技路988号贵金属研究所
  • 邮编:650106
  • 邮箱:bjba@ipm.com.cn
  • 电话:0871-68328632 5132018
  • 国际标准刊号:ISSN:1004-0676
  • 国内统一刊号:ISSN:53-1063/TG
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 中国有色金属工业优秀科技期刊二等奖
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国剑桥科学文摘,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版)
  • 被引量:3854