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投影光刻系统中的掩模硅片相关识别对准技术
  • ISSN号:1007-5461
  • 期刊名称:《量子电子学报》
  • 时间:0
  • 分类:TN23[电子电信—物理电子学] TN29[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:[1]广东工业大学物理与光电工程学院,广东广州510006
  • 相关基金:国家自然科学基金(61107029,60977029)、广东省自然科学基金(07001789)、广东省科技计划项目(20078010400071)及广东省创新实验项目(1184510158,HSZJ2011089)资助课题
中文摘要:

分析图像相关识别中的纯相位匹配滤波器的模式识别方法,利用该滤波器的相关识别位图计算算法,及其所具有的相干峰尖锐特性与高度旋转敏感特性,分别求取得光刻套刻过程中,掩模板和硅片基板对准标记的相对平移坐标与旋转坐标的精密量化驱动值。将此算法的实施单元建立在一套成型的大面积投影光刻系统中,使得该系统的对位精度与对位效率显著地提高。

英文摘要:

A pattern recognition named phase-only matched filtering is presented to realize high precision alignment in projecting lithography. The method achieves the alignment with the characteristic direction of templates and silicon substrate using the coherent peak rotating sensitive feature in the filter. Meanwhile the relative translation distance of templates and silicon substrate is obtained in recognition algorithms. Such an alignment system is assembled in our mature projection lithography machine, and the experimental data obtained prove the higher accuracy and efficiency compared with conventional algorithms.

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期刊信息
  • 《量子电子学报》
  • 北大核心期刊(2011版)
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国光学学会基础光学专业委员会 中国科学院安徽光学精密机械研究所
  • 主编:龚知本
  • 地址:合肥1125号信箱
  • 邮编:230031
  • 邮箱:lk@aiofm.ac.cn
  • 电话:0551-5591564
  • 国际标准刊号:ISSN:1007-5461
  • 国内统一刊号:ISSN:34-1163/TN
  • 邮发代号:26-89
  • 获奖情况:
  • 1997年获“中国光学期刊”二等奖,1994年评比华东地区优秀期刊三等奖,1998年评为安徽省优秀科技期刊二等奖
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:4844