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旋涂速度对制备P3HT有机场效应晶体管性能的影响(英文)
  • ISSN号:1000-7032
  • 期刊名称:《发光学报》
  • 时间:0
  • 分类:TN386[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构:天津理工大学理学院, 天津理工大学材料科学与工程学院显示材料与光电器件重点实验室(教育部)天津光电材料与器件重点实验室
  • 相关基金:国家自然科学基金(61076065,11204214)资助项目
中文摘要:

采用溶液化的方法制备了以PMMA为绝缘层、P3HT为有源层的有机场效应晶体管。研究了P3HT有源层和PMMA绝缘层的旋涂速度对器件性能的影响。实验结果表明,当P3HT和PMMA的旋涂速度均为2 000 r/min时,器件的性能最佳。峰值场效应迁移率为6.84×10-2cm2·V-1·s-1。结果表明,选择适当的旋涂速度是一种有效提高溶液化制备有机场效应晶体管性能的方法。

英文摘要:

P3HT-based organic field effect transistors( OFETs) with PMMA gate dielectric were fabricated by solu-tion process. The effects of the spinning speeds of both P3HT active layer and PMMA gate dielectric on the perform-ance of the devices were investigated. The experiment results show that the fabricated OFETs exhibit the optimal per-formance at the spinning speeds of 2 000 r/min of both P3HT and PMMA, of which the field effect mobility is 6. 84 × 10 -2 cm2 ·V-1 ·s-1 . This indicates that spinning speed is a technological parameter to improve the performance of solution-processed OFETs.

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期刊信息
  • 《发光学报》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国物理学会发光分会 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
  • 主编:申德振
  • 地址:长春市东南湖大路3888号
  • 邮编:130033
  • 邮箱:fgxbt@126.com
  • 电话:0431-86176862
  • 国际标准刊号:ISSN:1000-7032
  • 国内统一刊号:ISSN:22-1116/O4
  • 邮发代号:12-312
  • 获奖情况:
  • 物理学类核心期刊,2000年获中国科学院优秀期刊二等奖,中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:7320