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An isotopic labeling study of the diffusion mechanism during oxidation of Si(100) in water vapor by
  • ISSN号：0947-8396
  • 期刊名称：Applied Physics A-Materials Science & Processing
  • 时间：0
  • 页码：671-676
  • 语言：英文
  • 相关项目：平板显示器件中ITO腐蚀规律及其机理研究
作者： Li, J.|Deng, B.|Jiang, Y. M.|Zhong, C.|Gong, J.|
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