氧化石墨烯基二极管存储器具有结构简单、容量大、存取速度快、数据受保护程度高、绿色环保、可大面积制备且与柔性衬底相兼容等诸多优点,拥有良好的开发前景和应用价值。目前,氧化石墨烯基二极管存储器的研究在国际上刚刚起步,与传统存储器相比,主要存在着存储性能低且机理互相矛盾等问题,制约了其实际应用。为解决以上问题,本项目提出利用厚度较薄的高介电常数绝缘材料构建氧迁移通道,利用超声喷雾的技术制备高质量且厚度合适的氧化石墨烯薄膜,以此提高氧化石墨烯基二极管存储器的性能。同时通过观测不同厚度的氧化石墨烯薄膜在不同导电态下的内部微观结构的变化,并结合分析电极与氧化石墨烯薄膜之间的能级匹配和具体反应,研究氧化石墨烯基二极管存储器的存储机理,构建合理的存储机理模型。通过本项目的研究,可以使得碳基材料能够有效应用到存储器上,最终研制出全碳结构的二极管存储器,从而为研制下一代的存储器件提供技术储备。
英文主题词Flash;write-once-read-many-times(WORM);Oxgen transfer channel;Redox reaction;Charge traps