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高能聚焦电子束硅纳米线加工及相关物理问题研究
  • 项目名称：高能聚焦电子束硅纳米线加工及相关物理问题研究
  • 项目类别：面上项目
  • 批准号：60776007
  • 申请代码：F0401
  • 项目来源：国家自然科学基金
  • 研究期限：2008-01-01-2010-12-31
  • 项目负责人：朱贤方
  • 负责人职称：教授
  • 依托单位：厦门大学
  • 批准年度：2007
中文摘要：

电子束是目前唯一的既可以进行纳米加工又可以原位观察纳米结构的手段。本项目拟采用高压透射电镜原位观察技术，开展高能聚焦电子束对硅纳米线辐照效应系统深入研究。通过观察高能聚焦电子束与硅纳米线的交互作用，研究高能聚焦电子束快速能量沉积（包括非热激活和热激活）引起的硅纳米线结构的各种变化，重点研究文献中忽略的超快能量沉积引起的局域软模乃至局域"融蒸"和"离削"引起的结构变化、收缩、打孔和切割效应，以及硅纳米线表面曲率对这些效应的影响。为确定新一代纳米器件电子束加工工艺和电镜检测提供可靠参数和科学依据。

中文主题词： 硅纳米线;透射电镜原位观察;软模效应;纳米曲率效应;纳米打孔和切割
结论摘要：

英文主题词silicon nanowire; in situ transmission electron microscope observation; soft mode effect; nanocurvature effect; nano hole-making and nano cutting

成果综合统计
成果类型
数量
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利
  • 获奖
  • 著作
  • 23
  • 17
  • 7
  • 0
  • 0
期刊论文
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电阻热蒸发镀膜与电子束蒸发镀膜对纳米球刻蚀方法制备二维银纳米阵点的影响
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电子束辐照下单壁碳纳米管的结构不稳定性
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挡风墙对直接空冷风机群流体动力学特性的影响
PMMA纳米球的制备及其银膜包覆技术
聚焦电子束诱导SiOx纳米线表面碳沉积的分形生长
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会议论文
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电阻热蒸发镀膜与电子束蒸发镀膜对纳米球光刻方法制备二维银纳米阵点的影响
专利
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一种二维正方点阵排列的准正方形纳米颗粒阵列结构的制备工艺
一种二维六角点阵排列的蜂窝状纳米颗粒阵列结构的制备工艺
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