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外电场下薄膜润滑特性研究
  • 所属机构名称：清华大学
  • 会议名称：2006全国摩擦学学术会议－纪念摩擦学40周年，2006年7月25-29日，哈尔滨。
  • 成果类型：会议
  • 相关项目：磁头、磁盘表面润滑规律和超薄保护膜的生长机理及技术
作者： 雒建斌、何雨、沈明武、温诗铸
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磁头、磁盘表面润滑规律和超薄保护膜的生长机理及技术
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