磁头、磁盘表面润滑规律和超薄保护膜的生长机理及技术-东篱科研大数据发现系统（DRDS）

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磁头、磁盘表面润滑规律和超薄保护膜的生长机理及技术

项目名称：磁头、磁盘表面润滑规律和超薄保护膜的生长机理及技术
项目类别：重大项目
批准号：50390062
申请代码：E05
项目来源：国家自然科学基金
研究期限：2003-04-30-2007-03-31

项目负责人：雒建斌
负责人职称：研究员
依托单位：清华大学
批准年度：2003

中文摘要：

本项目研究磁头、磁盘的润滑和超薄保护膜的制备方法，可望在理论上揭示出高速运动表面的润滑行为和规律、超薄保护膜的生长面理，在技术上实现磁头、磁盘表面的防污染润滑和连续、均匀、致密超薄膜的制备技术和方法。

中文主题词：表面改性；计算机硬盘；分子膜；超薄固体膜

英文摘要：

surface modification, HDD, mol

英文主题词： surface modification, HDD, mol

结论摘要：

主要针对硬盘中的表面改性展开研究。包括磁盘表面润滑分子膜的制备与迁移特性研究、磁头表面超薄固体膜的制备技术与特性研究等。在课题研究中，成功地制备出抗湿特性优良、结合力强的磁头表面改性分子膜，将硬盘起动静摩擦力降低了1倍，并提高了磁头的抗污染能力；采用分子动力学模拟手段，研究磁盘表面PFPE润滑分子的静态和动态特性，揭示出壁面作用、端基极性与分子膜稳定性之间的关系。在超薄固体膜方面，完成了磁过滤阴极弧沉积系统，并结合使用微波-ECR等离子体增强沉积等技术，制备出超薄(<2 nm)DLC膜、掺杂DLC和SiNx薄膜，建立了制备参数同薄膜化学组成、微观结构和力学及摩擦学性能间的关系，并还使用模拟手段探讨了超薄DLC薄膜的生长机理。建立了荧光纳米颗粒观测系统，用其研究流体、纳米颗粒及壁面间的相互作用。参编英文专著（1章），撰写英文专著1本（待出版）。已发表论文48篇，其中26篇被SCI收录。获发明专利5项。获教育部科技进步奖一等奖1项。作大会主题报告(Keynote Speech)4次，特邀报告(Invited Speech)7次。

成果综合统计