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Si掺杂对DLC薄膜结构和性能的影
所属机构名称:清华大学
会议名称:2004年中国材料学研讨会,2004年11月2-5日,北京,分会报告
成果类型:会议
相关项目:磁头、磁盘表面润滑规律和超薄保护膜的生长机理及技术
作者:
丁万昱,陈小锰,徐军,朴勇,邓
同会议论文项目
磁头、磁盘表面润滑规律和超薄保护膜的生长机理及技术
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