欢迎您!
东篱公司
退出
申报数据库
申报指南
立项数据库
成果数据库
期刊论文
会议论文
著 作
专 利
项目获奖数据库
位置:
成果数据库
>
会议
> 会议详情页
Anti-stiction Carbon Nitride C
所属机构名称:清华大学
成果类型:会议
相关项目:磁头、磁盘表面润滑规律和超薄保护膜的生长机理及技术
作者:
Jun XU, Xin LI, Peng GAO, Wany
同会议论文项目
磁头、磁盘表面润滑规律和超薄保护膜的生长机理及技术
期刊论文 53
会议论文 23
著作 1
同项目会议论文
Movements and Collisions of Na
Movements and Collision of Nan
Microwear of the surface colli
外电场下薄膜润滑特性研究
Si掺杂对DLC薄膜结构和性能的影
Polishing for atomic smooth su
等离子体中Si原子相对密度对SiNx
超光滑表面加工机理研究
Variations of the Surface Laye
从薄膜润滑到计算机硬盘的表面加
计算机磁头表面改性研究
MW-ECR Plasma Enhanced Unbalan
Influence of Reactive Gas Flow
Ultra-fine thin film preparati
基体负偏压对SiCN薄膜结构和性能
Variation of the Surface Layer
超薄SiNx薄膜结构对其抗腐蚀、抗
放电腔微波ECR等离子体增强非平
DLC膜用于解决MEMS器件粘附问题
Advances in thin film lubricat
Deposition of Silicon Carbon N
The characteristics of thin fi