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基体负偏压对SiCN薄膜结构和性能
  • 所属机构名称：清华大学
  • 会议名称：2006北京国际材料周论文集
  • 成果类型：会议
  • 相关项目：磁头、磁盘表面润滑规律和超薄保护膜的生长机理及技术
作者： 高鹏，徐军，朴勇，丁万昱，王德
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