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Heteroepitaxial growth of 3C-SiC on Si (111) substrate using AlN as a buffer layer
  • 所属机构名称:中国科学院半导体研究所
  • 会议名称:12th International Conference on Silicon Carbide and Related Materials, ICSCRM 2007
  • 成果类型:会议
  • 会场:Otsu, Japan
  • 相关项目:3C-SiC自支撑衬底及其金属氧化物场效应晶体管(MOSFETs)研究
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