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Material Removal and Surface Modification in Chemical Mechanical Polishing of GaAs Wafer
  • 所属机构名称：清华大学
  • 会议名称：WTC 2009
  • 成果类型：会议
  • 相关项目：化学机械组合作用功能粒子及其超精抛光机理研究
作者： Lu Xinchun|Zhou Yan|Liu Yan|Zhu Yonghua|Pan Guoshun|Luo Jianbin|
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