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Flattening of low temperature epitaxial Ge1-xSnx/Ge/Si(100) alloys via mass transport during post-gr
  • ISSN号:0169-4332
  • 期刊名称:Applied Surface Science
  • 时间:0
  • 页码:4468-4471
  • 相关项目:Si/Ge长波长单光子探测器基础研究
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