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化学刻蚀硅制备太阳能电池减反射结构的研究进展
  • ISSN号:1003-6326
  • 期刊名称:《中国有色金属学报:英文版》
  • 时间:0
  • 分类:TM914.41[电气工程—电力电子与电力传动]
  • 作者机构:[1]沈阳大学辽宁省先进材料制备技术重点实验室,辽宁沈阳110044
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(51171118); 沈阳市科技基金资助项目(F10-205-1-60)
中文摘要:

硅基太阳能电池的关键技术之一是在硅表面制备高效减反射结构,化学刻蚀法是制备减反射结构的最常用方法,其研究热点为贵金属辅助化学刻蚀技术,综述了化学刻蚀硅制备太阳能电池减反射结构的主要方法、刻蚀机理、工艺特征及应用等的研究进展,重点介绍了贵金属辅助化学刻蚀技术的最新研究成果.

英文摘要:

The research of the silicon solar cells mainly focuses on reducing cost and improving conversion efficiency,and one of the effective methods of reducing the photoelectric conversion efficiency of the solar cells is to decrease the reflection of incident sunlight onto the light-receiving surface.Preparation antireflection structure is an important step in the preparation of silicon-based solar cell.Wet chemical etching is the most common method to produce antireflection structure due to its simple and low cost process.The latest progress in the preparation of antireflection structure via chemical etching silicon is reviewed,focusing on the main etching method,etching mechanism,process characteristics and applications.

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期刊信息
  • 《中国有色金属学报:英文版》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学技术协会
  • 主办单位:中国有色金属学会
  • 主编:黄伯云
  • 地址:中国长沙中南大学
  • 邮编:410083
  • 邮箱:f-xsxb@csu.edu.cn
  • 电话:0731-88830949
  • 国际标准刊号:ISSN:1003-6326
  • 国内统一刊号:ISSN:43-1239/TG
  • 邮发代号:42-317
  • 获奖情况:
  • 国家“双百”期刊,第二届全国优秀科技期刊评比二等奖,中国有色金属工业总公司优秀科技期刊一等奖
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,美国科学引文索引(扩展库),英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊
  • 被引量:1159