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侧墙铬衰减型新结构移相掩模的应
  • 期刊名称：半导体学报，2006, 27(增刊): 250-252
  • 时间：0
  • 相关项目：100nm分辨率交替式移相掩模设计中的关键技术研究
作者： 谢常青*，刘明，陈宝钦，叶甜春
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100nm分辨率交替式移相掩模设计中的关键技术研究
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