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193nm光刻散射条技术研究
  • 期刊名称：微电子学，2004，35(4): 360-363
  • 时间：0
  • 相关项目：100nm分辨率交替式移相掩模设计中的关键技术研究
作者： 康晓辉，张立辉，范东升，王德强
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