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Internal stress in MPCVD diamond films on the Si substrate based on XRD line shape
  • ISSN号：1673-1905
  • 期刊名称：《光电子快报：英文版》
  • 时间：0
  • 分类：TQ171.112[化学工程—玻璃工业;化学工程—硅酸盐工业] TN304.18[电子电信—物理电子学]
  • 作者机构：[1]School of Electronic and Information Engieering, Tianjin University, Tianjin 300072, China, [2]Tianjin Key Laboratory for Film Electronic and Communication Device, School of Electronics Information Engineering, Tianjin University of Technology, Tianjin 300384,China, [3]Dongping High School, Shandong 271500, China
  • 相关基金：This work has been supported by the National Natural Science Foundation of China（No.60576011 ）, Key Laboratory Foundation of Tianjin（No. 06TXTJJC14701）, and Colleges and Universities Foundation of Tianjin（No. 20050519）.
作者： 李晓伟[1,2], 李翠平[1], 高成耀[1], 黄梦雪[3], 杨保和[2]
关键词： X射线衍射测量, 金刚石薄膜, 化学汽相沉积, 微波等离子体化学气相沉积法, 硅衬底, 内应力, 宏观应力, 线形
中文摘要：

E-mail： lxw01 @yahoo.cn

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期刊信息
  • 《光电子快报：英文版》
  • 主管单位:
  • 主办单位:天津理工大学
  • 主编：巴恩旭
  • 地址：天津市西青区宾水西道391号
  • 邮编：300384
  • 邮箱：Oelett@yahoo.com.cn
  • 电话：022-23679707 23657134
  • 国际标准刊号：ISSN：1673-1905
  • 国内统一刊号：ISSN：12-1370/TN
  • 邮发代号:6-198
  • 获奖情况:
  • 中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,英国科学文摘数据库
  • 被引量:147