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Schottky barrier height reduction for metal/n-InP by inserting ultra-thin atomic layer deposited hig
  • ISSN号:0003-6951
  • 期刊名称:Applied Physics Letters
  • 时间:2013.12.23
  • 页码:-
  • 相关项目:分子层淀积量子阱有机薄膜晶体管的基础研究
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