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表面钝化硅纳米线的能带结构
  • ISSN号:1674-4926
  • 期刊名称:《半导体学报:英文版》
  • 时间:0
  • 分类:O471.5[理学—半导体物理;理学—物理]
  • 作者机构:[1]清华大学微电子学研究所,北京100084
  • 相关基金:国家自然科学基金重大国际合作资助项目(批准号:90307016)
中文摘要:

采用第一性原理的方法计算了不同尺寸的(100)硅纳米线在H饱和及F饱和下的电子结构-计算结果表明,F饱和与H饱和的(100)硅纳米线均为直接禁带半导体,但F饱和硅纳米线的禁带宽度和价带有效质量都远小于H饱和硅纳米线,这一现象可用价带顶的σ-n杂化效应来解释.计算结果还表明,H或F饱和的(100)硅纳米线的极限——硅单原子链则表现为间接带隙半导体,文中对这一现象进行了分析和讨论.

英文摘要:

(100) silicon nanowires (SiNW) with different sizes and different surface terminations are studied with first-principles calculation. The results show that the one dimensional band structures of (100) SiNW with H and F terminations are both direct bandgap semiconductors,but SiNWs with an F termination have a smaller band gap and valence effective mass than SiNWs with an H termination. This can be interpreted via the σ-n mixing effect,i, e. ,the non-bonding 2P electrons (n) of F atoms produce an important orbital mixing with the a valence electrons. We also predict from the calculations that the extreme of (100) SiNW-a 2 ×2 helical Si atom chain- is an indirect bandgap semiconductor. This prediction is explained at the end of this paper.

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期刊信息
  • 《半导体学报:英文版》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国电子学会 中国科学院半导体研究所
  • 主编:李树深
  • 地址:北京912信箱
  • 邮编:100083
  • 邮箱:cjs@semi.ac.cn
  • 电话:010-82304277
  • 国际标准刊号:ISSN:1674-4926
  • 国内统一刊号:ISSN:11-5781/TN
  • 邮发代号:2-184
  • 获奖情况:
  • 90年获中科院优秀期刊二等奖,92年获国家科委、中共中央宣传部和国家新闻出版署...,97年国家科委、中共中央中宣传部和国家新出版署三等奖,中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,英国科学文摘数据库,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),英国英国皇家化学学会文摘,中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:7754