位置：成果数据库 > 期刊 > 期刊详情页
Experimental research on resist ?lling behavior in microimprint lithography by using defocusing digi
  • ISSN号：0946-7076
  • 期刊名称：Microsystem Technologies
  • 时间：0
  • 页码：-
  • 相关项目：微复型过程中聚合物流动填充机理的可视化实验分析
作者： Du Jun|Wei Zhengying|Li Shize|Tang Yiping|
同期刊论文项目
微复型过程中聚合物流动填充机理的可视化实验分析
期刊论文 14 会议论文 4
同项目期刊论文
Flow Behaviour Analysis and Experimental Investigation for Emitter Micro-channels
压力补偿灌水器分步式CFD设计与实验研究
纳米压印中聚合物界面行为的分子动力学
Investigation of resist filling behavior in microimprint lithography by CFD simulation and defocusin
常温微压印中抗蚀剂流动的研究及工艺优化
Effects of Mold Geometries and Initial Resist Thickness on Filling Behavior in UV-Nanoimprint Lithog
Reverse Nonequilibrium Molecular Dynamics Calculation of the Resist Shear Viscosity in UV-Nanoimprin
压力补偿灌水器分步式计算流体动力学设计方法
纳米压印模具及膜厚对抗蚀剂填充特性的影响
面向制造的灌水器产品快速定型与模具CAE研究
微压印中抗蚀剂三维微流场可视化实验研究