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纳米压印中聚合物界面行为的分子动力学
  • ISSN号:1000-7555
  • 期刊名称:高分子材料科学与工程
  • 时间:0
  • 页码:186-190
  • 分类:TB383[一般工业技术—材料科学与工程]
  • 作者机构:[1]机械制造系统工程国家重点实验室(西安交通大学),陕西西安710049
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(50975227);全国博士学位论文作者专项资金(200740);国家自然基金重大研究计划(90923040);长江学者和创新团队发展计划(IRT0646)资助
  • 相关项目:微复型过程中聚合物流动填充机理的可视化实验分析
中文摘要:

在纳米压印中,模具和聚合物之间的相互作用能对方的特征的图型转移质量有着重要影响,文中利用分子动力学分别选择聚二甲基硅氧烷(PDMS),聚乙烯(rE),聚甲基丙烯酸甲酯(PM)研究了他们和模具壁面之间在不同距离时,壁面和聚合物之间相互作用能的变化关系,并考虑聚合物填充过程中压强对模具壁面和聚合物之间相互作用的影响,以及聚合物聚合度对他们之间的影响。通过研究得出,聚合物和壁面之间相互作用能随距离的增大而减小,随聚合物聚合度的增加而增大;对于常温紫外压印,压强在233kPa左右时聚合物和模具壁面间的相互作用能出现了峰值点。

英文摘要:

In the process of nanoimprint lithography, the interaction energy between the mold and the polymer is the key factor to affect the final pattern quality. In this paper, the molecular dynamics analysis scheme was proposed to study the interaction between polymers including polydimethylsiloxane (PDMS), polyethylene (PS), polymethylmethacrylate(PMMA) and the mold, the influences to the interaction energy including the distance between the polymer and mold, the degree of polymerization and the pressure. The result indicates that: with the distance decreasing and the polymer degree of polymerization increasing, the interaction energy between the mold and the polymer increase. For UV-nanoimprint lithography, the pressure at the point of 233 kPa, the interaction energy comes to a peak.

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期刊信息
  • 《高分子材料科学与工程》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中华人民共和国教育部
  • 主办单位:中国石油化工股份有限公司科技开发部 国家自然科学基金委员会化学科学部 高分子材料工程国家重点实验室 四川大学高分子研究所
  • 主编:王琪
  • 地址:四川大学(西区)高分子研究所
  • 邮编:610065
  • 邮箱:GFZCLBJB@163.com
  • 电话:028-85401653
  • 国际标准刊号:ISSN:1000-7555
  • 国内统一刊号:ISSN:51-1293/O6
  • 邮发代号:62-67
  • 获奖情况:
  • 教育部1999年全国优秀期刊二等奖,1999年四川省优秀科技期刊一等奖,2000年四川省优秀期刊二等奖,中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,英国高分子图书馆,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:30425