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直流反应磁控溅射在氮化的蓝宝石衬底上制备AlN薄膜(英文)
  • ISSN号:1000-7032
  • 期刊名称:发光学报
  • 时间:2012
  • 页码:227-232
  • 分类:O76[理学—晶体学]
  • 作者机构:[1]发光学及应用国家重点实验室中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,吉林长春130033, [2]中国科学院研究生院,北京100039
  • 相关基金:国家自然科学基金(51072196,51072195)资助项目
  • 相关项目:GaN/InN(QD)量子点复合结构载流子倍增太阳能电池材料与器件研究
中文摘要:

通过直流磁控反应溅射装置,在蓝宝石(0001)衬底和氮化的蓝宝石(0001)衬底上成功制备了氮化铝(AIN)薄膜。利用X射线衍射仪、原子力学显微镜和双光束扫描分光计,研究了蓝宝石氮化对AIN薄膜结构、应力、晶粒尺寸、形貌和光学性质的影响。X射线衍射研究表明:制备的AIN薄膜具有较强的(0002)择优取向,蓝宝石衬底的氮化不仅能够改善AIN结晶质量,而且还可以减少薄膜的残余应力。但是,原子力学显微镜结果表明:在蓝宝石衬底上制备的AIN薄膜的晶粒大小分布比在氮化的蓝宝石衬底上制备的AIN薄膜的晶粒大小分布更加均匀。我们认为,蓝宝石衬底在氮化的过程中形成的AIN具有过多的位错和缺陷,正是这些位错和缺陷造成了在氮化的蓝宝石衬底上制备的AIN薄膜的晶粒大小分布的不均匀性。吸收光谱显示:蓝宝石衬底的氮化并没有对AIN薄膜的光学性质产生明显的改善。

英文摘要:

Aluminum nitride(AlN) films were prepared successfully on sapphire and nitrided sapphire substrates by reactive DC magnetron sputtering.The effect of nitridation of sapphire substrate on the growth of AlN films was studied.The films were characterized by X-ray diffraction(XRD),atomic force microscopy(AFM) and optical absorption spectrum.XRD patterns of AlN films exhibited a strong preferential c-axis orientation,and nitridation of sapphire substrate could improve the crystal quality of AlN films and also decrease the residual stress of films.But AFM results revealed that the grain size distribution of films deposited on nitrided sapphire substrates was not more homogenous than that of films deposited on sapphire substrates,and optical absorption results also showed nitridation of sapphire substrate nearly had no effect on the optical behavior of AlN films.

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期刊信息
  • 《发光学报》
  • 中国科技核心期刊
  • 主管单位:中国科学院
  • 主办单位:中国物理学会发光分会 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
  • 主编:申德振
  • 地址:长春市东南湖大路3888号
  • 邮编:130033
  • 邮箱:fgxbt@126.com
  • 电话:0431-86176862
  • 国际标准刊号:ISSN:1000-7032
  • 国内统一刊号:ISSN:22-1116/O4
  • 邮发代号:12-312
  • 获奖情况:
  • 物理学类核心期刊,2000年获中国科学院优秀期刊二等奖,中国期刊方阵“双效”期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 美国化学文摘(网络版),荷兰文摘与引文数据库,美国工程索引,美国剑桥科学文摘,日本日本科学技术振兴机构数据库,中国中国科技核心期刊,中国北大核心期刊(2004版),中国北大核心期刊(2008版),中国北大核心期刊(2011版),中国北大核心期刊(2014版),中国北大核心期刊(2000版)
  • 被引量:7320