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石墨烯薄膜的化学气相法制备及光、电特性研究
  • ISSN号:1672-0687
  • 期刊名称:苏州科技学院学报(自然科学版)
  • 时间:0
  • 页码:41-45
  • 分类:O431.2[机械工程—光学工程;理学—光学;理学—物理]
  • 作者机构:[1]苏州科技学院数理学院,江苏苏州215009
  • 相关基金:国家自然科学基金资助项目(60976071)
  • 相关项目:稀磁锗(Ge)介观量子环的光电磁特性研究
中文摘要:

单层硫化钼(MoS2)因具有直接带隙和特殊的六方晶系层状结构,而呈现优异的光学特性和电学特性。基于p-n结扩散模型推导了MoS2/Si异质结的接触特性和伏安特性,分析了不同施主掺杂浓度(n-MoS2)和受主掺杂浓度(p-Si)对能带结构和输运特性的影响。研究表明:MoS2/Si异质结的内建电势和势垒区宽度由施主、受主掺杂浓度共同决定。随着掺杂浓度的升高,内建电势VD逐渐增大,而势垒区宽度XD呈明显减小的趋势。另外,发现p-Si的受主掺杂浓度决定了MoS2/Si异质结的电流密度和反向饱和电流密度,均随着p-Si的受主掺杂浓度的增大而减小,但与n-MoS2的掺杂浓度关系不大。

英文摘要:

Single-layer(SL) molybdenum disulfide(Mo S2) has excellent optical and electrical properties for its special hexagonal layered structure and the direct band gap. In this paper, we investigated the contact characteristics and the cur-rent-voltage characteristics of n-Mo S2/p-Si heterojunction based on the p-n junction diffusing model, and analyzed the effects of the doping concentrations of n-Mo S2 and p-Si on the band structure and transport properties. The results indicate that both the built-in potential and the width of the space-charge region depend on the doping concentrations. The built-in potential is positively related to them while the width of the space-charge region declines sharply with the in-creasing of them. In addition, we found that the current density decreases with the increasing of the doping concentration of p-Si, and significantly increases with the increasing of the temperature, but has not much to do with that of n-Mo S2.These results are instructive for fabricating Mo S2 optoelectronic devices.

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期刊信息
  • 《苏州科技大学学报:自然科学版》
  • 主管单位:江苏省教育厅
  • 主办单位:苏州科技大学
  • 主编:李新
  • 地址:苏州高新区科锐路1号
  • 邮编:215009
  • 邮箱:xbzr@mail.usts.edu.cn
  • 电话:0512-68092989
  • 国际标准刊号:ISSN:1672-0687
  • 国内统一刊号:ISSN:32-1701/N
  • 邮发代号:
  • 获奖情况:
  • 2001年获《CAJ-CD规范》执行优秀奖、江苏省一级期刊
  • 国内外数据库收录:
  • 俄罗斯文摘杂志,美国化学文摘(网络版),德国数学文摘
  • 被引量:0