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Effects of high-temperature annealing structure of reactive-sputtered a-SiC:H films
  • 期刊名称：Thin Solid Films
  • 时间：0
  • 页码：1998,355,249-252
  • 语言：英文
  • 相关项目：宽带隙半导体薄膜欧姆接触特性和机理研究
作者： 王印月|
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期刊论文 9
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