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Origin of flat-band voltage sharp roll-off in metal gate/high-k/ultrathin- SiO2 /Si p-channel metal-
  • ISSN号：0003-6951
  • 期刊名称：Applied Physics Letters
  • 时间：2010
  • 页码：132908-132908
  • 相关项目：SOI基波导谐振环中光传输特性及增益补偿机制
作者： 肖志松|
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SOI基波导谐振环中光传输特性及增益补偿机制
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